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    產(chǎn)品展示
    • CleanMill氬離子研磨系統(tǒng)

      CleanMill氬離子研磨系統(tǒng)為電池樣品SEM表征提供高質(zhì)量的制樣方案,傳統(tǒng)的機(jī)械研磨方式制備樣品斷面,斷面不可避免的存在機(jī)械損傷和磨料嵌入樣品引起的污染。使用氬離子束切割樣品制備,可以制備出沒(méi)有機(jī)械損傷和表面污染的平整斷面,非常適用于 制備電池材料和部件的斷面樣品,從而進(jìn)行掃 描電子顯微鏡結(jié)構(gòu)表征分析。

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      更新日期:2023-03-20
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    • XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀

      XTrace-基于SEM高性能微區(qū)熒光光譜儀采用了X射線毛細(xì)導(dǎo)管技術(shù),利用該技術(shù),即使在非常小的樣品區(qū)域也能產(chǎn)生很高的熒光強(qiáng)度。X射線毛細(xì)導(dǎo)管將X射線源的大部分射線收集,并將其聚焦成直徑35微米的一個(gè)X射線點(diǎn)。

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      更新日期:2023-03-20
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    • 精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685

      精密刻蝕鍍膜系統(tǒng)PECS II 685,一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設(shè)備。對(duì)于同一個(gè)樣品,可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。

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      更新日期:2023-03-20
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    • ChromaCL2第二代實(shí)時(shí)彩色陰極發(fā)光成像系統(tǒng)

      ChromaCL2第二代實(shí)時(shí)彩色陰極發(fā)光成像系統(tǒng),是一款*的產(chǎn)品。它具有高效的光學(xué)采集和色散能力,采用陣列光電倍增管得到高增益光探測(cè)能力。通過(guò)DigitalMicrograph軟件實(shí)時(shí)地將光子脈沖信號(hào)混合成實(shí)時(shí)彩色陰極發(fā)光圖像。

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      更新日期:2023-03-20
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    • Gatan原位加熱臺(tái)Murano 525

      Gatan原位加熱臺(tái)Murano 525,精悍緊湊,能方便地與大多數(shù)掃描電鏡的標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)接口,它包含一個(gè)絕熱接口,適用于二次電子像、電子背散射衍射(EBSD)與聚焦離子束(FIB)加工。能夠?qū)Υ笾?mm x 4.5mm x 1.5mm大小的樣品進(jìn)行快速加熱。

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      更新日期:2023-03-20
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    • MICROTEST 2000E系列原位動(dòng)態(tài)拉伸試驗(yàn)臺(tái)

      MICROTEST 2000E系列原位動(dòng)態(tài)拉伸試驗(yàn)臺(tái),可以對(duì)金屬樣品施加高達(dá)2000N的拉力,用戶EBSD分析,或者對(duì)一些其他材料進(jìn)行常規(guī)的應(yīng)力-應(yīng)變分析和SEM成像。試樣夾具70度角度傾斜,為EBSD分析提供了的設(shè)置。

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      更新日期:2023-03-20
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